工業(yè)清洗機的優(yōu)點是什么

滲透性好——表面張力低，這意味著液體可以很容易地進入或離開復雜幾何形狀的部分。清洗設備廠家可用于替代人工來清潔工件表面 油、 蠟、 塵、 氧化層等污漬與污跡的機械設備。硅片清洗機半導體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。會導致各種缺陷。工業(yè)清洗機主要是用于清洗零件，電路板，小型的部件。主要應用于軍工，航天，汽車等行業(yè)。 主要是用于清洗零件，電路板，小型的部件。微小的螺紋和盲孔中的污染物也可以被清洗干凈。無化學殘留，包容性強——溶劑包容性強，能廣泛溶解大多數(shù)污染物。用溶劑清洗過的零件干燥后，零件表面不會有化學殘留物。雖然人們普遍認為水基表面活性劑是“臟劑”，而且這些表面活性劑的化學物質在大量的生產(chǎn)過程中使用，但是如果這些表面活性劑沒有漂洗徹底，這些不揮發(fā)的化學殘留物會對產(chǎn)品的質量和安全造成一定的隱患。清潔質量——在全封閉的溶劑金屬清洗系統(tǒng)中，獨立蒸餾系統(tǒng)每個清洗循環(huán)中蒸餾后的清潔溶劑還提供純凈的溶劑蒸汽霧和一致的零件清洗質量。水基清洗技術不能通過水蒸餾、水循環(huán)和清洗來實現(xiàn)，主要是通過過濾裝置和水資源的大規(guī)模利用來實現(xiàn)。充分干燥和安全——有機溶劑揮發(fā)，機械部件快速徹底干燥，只需對比水和溶劑的潛熱，因為水的潛熱是2280kj/kg，而溶劑的潛熱是200-300kj/kg。由于水的潛熱是溶劑的10倍，水基清洗很難徹底干燥機械零件。但溶劑的潛熱只有水的10%，溶劑清洗快速高效，防止銹斑。節(jié)能高效——由于清洗室采用真空技術，沸點降低，蒸餾過程中剩余熱能立即氣化，可提高效率，達到每小時10個洗滌周期。環(huán)境保護-有機溶劑的缺點是空氣污染，但使用全封閉清潔系統(tǒng)后，這些污染可以得到有效控制。同樣，由于水基技術嚴重依賴表面活性劑的使用，這些不能完全降解的表面活性化學物質將對水資源造成巨大的殘留污染。據(jù)計算，清洗后的環(huán)境污染——水污染的影響是使用有機溶劑的200-2000倍。全封閉溶劑清洗技術，所有的污染物都會被隔離在蒸餾箱中，因此我們不再需要考慮如何處理大量的“臟溶劑”。此外，目前的溶劑供應商將提供特殊的溶劑運輸系統(tǒng)，用于封閉和安全地儲存和運輸溶劑和溶劑殘留物。